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年度 论文题目 期刊 页 收录情况
2012 Simultaneous Absorptance and Thermal-Diffusivity Determination of Optical Components with Laser Calorimetry Technique International Journal of Thermophysics, November 2012, Volume 33, Issue 10-11, pp 2069-2075
2012 单层二氧化铪(HfO_2)薄膜的特性研究 光电工程,2012,02:134-140.
2012 大型天文望远镜主镜镀膜技术 强激光与粒子束,2012,02:365-369.
2012 真空紫外波段铝反射膜制备 光学学报,2012,02:327-331.
2012 基于光谱采样率的反卷积算法分析 激光与光电子学进展,2012,04:153-158.
2012 深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备 光电工程,2012,05:13-17.
2012 Research on micro-displacement driving technology based on piezoelectric ceramic Proc. SPIE,8418,84180Z (October 15, 2012); doi: 10.1117/12.973648
2012 Technology of focus detection for 193nmprojection lithography tool Proc. SPIE？8418,84180Y (October 15, 2012); doi:10.1117/12.971448
2012 Effects of grating marks parameters on lithography alignment precision Proc. SPIE？8564,85641K (November 20, 2012); doi:10.1117/12.999503
2012 Alignment method based on matched dual-grating moire fringe for proximity lithography Opt. Eng. 51(11), 113603 (Nov 01, 2012).？doi:？10.1117/1.OE.51.11.113603
2012 Maskless lithography alignment method based on phase-shifting Moiré fringes technique Proc. SPIE,8418,84180L (October 15, 2012); doi: 10.1117/12.971463
2012 Synchronous control strategy of wafer and reticle stage of step and scan lithography Proc. SPIE,8418,84180M (October 15, 2012); doi: 10.1117/12.971476
2012 Study on control strategy for coarse/fine dual-stage of step and scan lithography Proc. SPIE. 8418,84180X (October 15, 2012) doi: 10.1117/12.971471
2012 Single closed fringe pattern phase demodulation in alignment of nanolithography Optik, 2012
2012 Properties of photon sieve diffraction based on FDTD method Proc. SPIE,8418,84180A (October 15, 2012); doi: 10.1117/12.971466
2012 光子筛成像技术研究进展 激光与光电子学进展,2012,09:50-54.
2012 光子筛透镜组合的折衍混合消色差系统设计？ 中国激光,2012,12:1216001
2012 双工件台光刻机中的焦面控制技术 光学学报,2012,12:1223002
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