5月21日,“2015年第三届中国半导体制造装备战略峰会暨半导体设备市场年会”（以下简称“峰会”）在上海召开。我所微电子专用设备总体研究室胡松主任、赵立新副主任应邀参加。作为特邀嘉宾，胡松研究员做了关于“紫外光刻技术及设备”的学术报告，获得了在场嘉宾的一致认可与好评。 

　　作为中国规格最高、规模最大、最具影响力的中国半导体制造装备产业交流年度盛典，该“峰会”为中国半导体制造装备产业的发展提供了新市场、新技术和新产品信息的交流平台，推动了中国半导体产业的发展。此次年会邀请大家一起探讨中国半导体制造装备市场的新机遇以及新趋势，寻求经济结构战略性调整的着力点，迎接中国半导体制造装备发展的新机会。 

　　光电所微电子专用装备是所重点学科之一，研发光刻机已经近40年,曾经完成我国第一台接近接触光刻机、第一台g线投影光刻机、第一台i线投影光刻机、第一台X射线投影光刻机、无掩模数字光刻机和第一台底面对准双面光刻机。光电所目前的光刻机产品主要有五类：URE-2000系列紫外单面光刻机、URE-2000S系列双面光刻机、URE-2000D系列大面积光刻机，DS-2000系列数字无掩模光刻机以及TYG-2000系列步进投影i线光刻机。光电所光刻机可以广泛用于集成电路、分立元件、光电器件、MEMS、微光学元件、声表器件、传感器等，从2000年开始销售，已经销售近400多台套，出口美国、新加坡、加拿大、越南、朝鲜等国家，深受国内外用户欢迎。产品先后获得国家重大技术装备成果一等奖、国家科技进步奖三等奖、中科院重大科技成果一等奖等多个奖项。 

　　通过本次年会，将进一步扩大光电所的影响力，吸引业界的关注，也将对开拓中国半导体制造装备产业的视野，提升产业高度，促进中国半导体制造装备产业资源、技术合作交流产生重要影响。 

四室主任胡松作报告