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专利库

专利名称:

一种适用于投影光刻系统的检焦系统及检焦方法

英文名称:

专利类别:

发明专利

申请号:

CN101916040A

申请日期:

2010.07.14

授权日期:

专利号:

第一发明人:

陈旺富;胡松;严伟;陈铭勇;周绍林;徐锋;李金龙;谢飞

其它发明人:

陈旺富;胡松;严伟;陈铭勇;周绍林;徐锋;李金龙;谢飞

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

缴费情况:

授权

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注:

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