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专利库

专利名称:

一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法

英文名称:

专利类别:

发明专利

申请号:

CN101727007A

申请日期:

2009.12.25

授权日期:

专利号:

第一发明人:

罗先刚;王长涛;冯沁;邢卉;潘丽;刘尧;方亮;刘玲

其它发明人:

罗先刚;王长涛;冯沁;邢卉;潘丽;刘尧;方亮;刘玲

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

缴费情况:

授权

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注:

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