所长信箱  |  联系我们  |  English  |  中国科学院
首 页 研究生教育 出版物 信息公开
当前位置:首页 > 科研成果 > 高科技产品
纳米压印光刻机
作者: 发布时间:2016-03-10 阅读次数:

技术特征:

●大面积一次压印;

●自动脱模;

●由PLC控制工艺过程,可实现自主定制;

●可与接近接触式光刻机兼容;

●友好的人机交互,触模屏操作。
 

主要技术指标:

● 分辩力: ≤ 15nm;

● 大功率紫外固化UV LED;

● 样片尺寸:4 英寸(可定制);

● 压印面积:2英寸(可定制);

● 模板尺寸:5 x 0.090英寸(可定制);

● 压印压力:0 - 25 PSI (可升级到100 PSI);

● 产量:< 5 分钟/片;

● 使用方便:Step-by-step Menu;

● 应用领域广泛。
 

   单位名称:中国科学院光电技术研究所

   单位地址:四川成都双流西航港光电大道1号

   单位网址:www.ioe.ac.cn

   联系人: 胡松、赵立新     电话/传真:028-85100564

   移动电话:13981738959      电子信箱:husong@ioe.ac.cn
 
【打印本页】【关闭本页】
中国科学院   版权所有 © 中国科学院光电技术研究所  单位邮编:610209 备案号:蜀ICP备05022581号
单位地址:中国四川省成都市双流350信箱 电子邮件:dangban@ioe.ac.cn