技术特点：
该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计，掩模—样片对准过程直观，套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。
主要技术指标：
★ 曝光面积：150mm×150mm；
★ 分辨力：1.5µm（胶厚2 µm的正胶）；
★ 对准精度：±2.5µm（双面），±1µm（单面）；
★ 掩模尺寸：3 inch、4 inch、5 inch、7 inch；
★ 样片尺寸：直径ф30mm-- ф150mm、
厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)；
★ 照明均匀性： ±4%(ф100mm范围)；±7%(ф150mm范围)
★ 掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; θ:±6°；
★ 汞灯功率：350W（直流）；
★ 曝光方式：定时（倒计时方式）
联系人:胡主任、唐主任
电话:85101784、85100564 |
