用途：在平板显示器、大尺寸光栅、码盘等刻划中具有突出的功能与用途。 
技术特点： 
◆ 采用3500W直流高压汞灯；◆ 采用蝇眼透镜实现高均匀照明； 
◆ 实现超大面积光刻；　　　◆采用CCD自动对准，自动化程度高； 
◆ 性能可靠、操作方便。 
主要技术指标： 
★ 曝光面积：430 mm×430 mm；　
★ 分辨力：3µm； 
★ 对准精度：≤±1µm ；　　　　　　
★ 掩模尺寸：16英寸、17英寸、18英寸、20英寸； 
★ 照明均匀性：±10%（430 mm×430 mm范围）； 
★ 掩模相对于样片运动行程：X: ±6mm;　 Y: ±6mm;　θ: ±6度； 
 
联系人:胡主任、唐主任 
电话:85101784、85100564